主要特点
此款设备由电动滑轨式管式炉、三路供气系统、真空及过滤系统、前驱体鼓泡装置,气体预热装置、软件控制等部分组成。适用于前驱体为非气态源,如固态或液态前驱体,前驱体灌温度可达400℃,且温度独立可调,固态或液态前驱体在一定温度下蒸发后通过惰性气体带入反应区域参与的一些CVD反应。
设备结构
1.左右两端进气抽气可相互切换;提高基体上涂层的均匀性;
2.炉体底部在电机带动下可在导轨上水平移动,移动速度根据工艺需要可设置。
3.采用触摸屏和工控电脑自动控制,参数设置和操作直观方便,参数自动记录保持。
4.供气系统可以按照客户的实验需求配置几路质量流量计,流量计的量程可选,真空系统也可以根据客户的需求选择配置各种真空泵。